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課程編號：

TIRI-113002

課程名稱：

113 年儀器技術訓練課程—真空鍍膜技術與實務應用訓練班

課程領域：

真空

上課方式：

實體教室：不使用視訊設備

上課地點：

儀科中心多功能教室

上課時間：

2024/8/29 (四) 00:00～2024/5/30 (四) 00:00

上課總天數：

報名時間：

2024/8/29 (四) 00:00～2024/8/29 (四) 00:00

最後繳費截止(含)：

2024/8/26 (一) 00:00

最後回報繳費截止(含)：

2024/8/29 (四) 00:00

提供午餐：

是

招生人數：

1～30人

講師：

儀科中心	專業講師

報名費用：

學生	3200
台灣真空學會會員	4000
儀科中心同仁	4000
一般人士	5100

課程介紹：

「113 年儀器技術訓練課程—真空鍍膜技術與實務應用訓練班」涵蓋電漿原理與應用、薄膜成長機制以及真空鍍膜應用及實務操作等單元系列教學內容，能快速讓學員理解真空鍍膜原理、薄膜成長機制及各式物理、化學氣相沉積之實務與理論，讓學員其研究主題或所從事之產業領域順利接軌，奠定就學或就業的良好基礎。

參加對象：

理工科系之研究生或對真空鍍膜技術有需求之產業新人

課程內容安排：

◎Day-1 理論基礎與技術課程


時間	課　程　內　容	講　師
08:40~09:00	報到／班主任致歡迎詞（班主任－蕭健男）
09:00~10:30	真空概論與應用	熊高鈺
10:30~10:40	茶敘時間
10:40~12:10	真空度量與幫浦	林郁洧
12:10~13:30	午餐時間
13:20~14:50	電漿原理與半導體製程之應用(I)	林鴻志
14:50~15:00	茶敘時間
15:00~16:30	電漿原理與半導體製程之應用(II)	林鴻志

◎Day-2 實務進階課程表


時間	課　程　內　容	講　師
08:40~09:00	報到
09:00~10:30	PVD 製程與應用	廖博輝
10:30~10:40	茶敘時間
10:40~12:10	CVD 製程與應用	陳維鈞
12:10~13:30	午餐時間
13:30~16:00	真空鍍膜實務操作（PVD、CVD）（依人數分組實地操作演練）	廖博輝、曾貴勝、王尉霖、丘坤安
16:00~16:10	茶敘時間
16:10~16:30	分組操作成果報告、課程總結與檢討	蕭健男

課程附註：

◎報名方式：本課程恕不開放系統報名，請登入學會網站線上報名系統填妥報名資料，再請盡速將匯款繳費證明回傳至學會信箱：taiwanvacuum@taiwanvacuum.org，即完成報名手續。
◎費用：
(1) 一天課程：基礎課程、進階課程二擇一，新台幣 3 5 00 元。
【學會會員優惠價 2, 8 00 元。憑有效學生證，學生優惠價 2 4 00 元】
(2) 兩天課程：基礎課程進階課程新台幣 5 1 00 元。
【學會會員優惠價 4 0 0 0 元。憑有效學生證，學生優惠價 3 2 0 0 元】
(3) 三人 (含) 以上一同報名者，每人費用再享 200 元折價優惠。
(4) 儀科中心研究生及暑期工讀生請向中心窗口報名 (賴君怡 / 分機656 / tiri-training@narlabs.org.tw)

◎聯絡資訊：
1. 聯絡人：台灣真空學會秘書曹櫻歷小姐
2. 洽詢電話：03-579-5046 電子信箱：taiwanvacuum@taiwanvacuum.org

相關附件：

真空鍍膜技術與實務應用訓練班課程簡章-v4.pdf